2628-16-2

...Ka, Mg, Fe, Cu, Mn, Ni, Cr, Al, Ca, Zn)":"Elk 50 ppb max","Moisture":"0,20% max","Polymerization Inhibitor":"200-300 ppm","Purity":"99,00% min volgens GC","Appearance":"Kleurloze transparante vloeistof"},"Package":{"Regular Packing":"N.W 200kg/ijzeren vat bekleed met plastic","Sample Packing":"0,1kg-1kg plastic fles"},"Status & Application":{"Status":"Industriële schaal","Application":"4-Acetoxystyreen [2628-16-2] kan worden gebruikt om Poly(p-hydroxystyreen) te synthetiseren als de belangrijkste component van fotolak."}}...