Plasma-oppervlaktebehandeling | Nano - Laagdruk plasma-oppervlaktebehandelingssysteem, plasmareiniging

De plasma-installaties van Diener electronic hebben zich al lang bewezen in de meest diverse industriële sectoren. Met de Nano lage druk plasma-installatie kiest u voor moderne en duurzame koude plasma technologie onder vacuüm. Het volume van de kamer van 18 tot 24 liter van dit plasma-systeem biedt voldoende ruimte voor laboratoria en seriefabricage. De lage druk plasma behandeling is een beproefde techniek voor gecontroleerde fijne reiniging, verbetering van de hechting (activatie en etsen) en het coaten van dunne lagen op substraten. Het plasma wordt gegenereerd door het gebruik van een hoge frequentie spanning in de vacuümkamer. Het behandelingsgas dat daarin wordt geïntroduceerd, wordt vervolgens geïoniseerd. Toepassing : - Reiniging zonder VOS van organische resten. - Activatie voor het lakken, lijmen, encapsuleren, ... - Etching van PTFE, fotosensitieve lak, oxide lagen, ... Afmetingen (tafelmodel): 560 mm x 600 - 860 mm x 600 mm (LxHxD) Afmetingen (staande uitvoering): 600 mm x 1700 mm x 800 mm (LxHxD) Vacuümkamer (materiaal): Roestvrij staal, Aluminium, Kwarts glas, Borosilicaatglas Vacuümkamer (afmetingen): ca. L 240 mm x H 240 mm x D 400 - 420 mm, Ø 267 mm, D 400 - 420 mm Vacuümkamer (volume): ca. 18 - 24 liter Vacuümkamer (sluiting): deksel, scharnierdeur Gasvoorziening: Naaldkleppen / Massaflowmeters (Mass-Flow-Controller (MFC's)) Drukmeting: Pirani, Capaciteitsmanometer (voor corrosieve gasversie) Generators: 100 kHz; 80 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz Elektroden: Een of meerdere niveaus Besturingssystemen: Semi-automatisch, Draai-knop, Basic PC, Full PC Spanning: 230 V / 400 V / 50 - 60 Hz Vacuümpompen: Zuigkracht: 16 m³/h