Plasma MEF 7-56 - MEF Technologie
Plasma MEF 7-56 - MEF Technologie

Plasma MEF 7-56 - MEF Technologie

Het plasma wordt bij de MEF-technologie gegenereerd door een elektrisch belemmerde ontlading en wordt als een geconcentreerde straal met behulp van perslucht op het oppervlak geblazen. Of het nu gaat om een enkele spuitmond voor gerichte voorbehandeling, meerdere spuitmonden voor bredere toepassingen of meerdere plasmamodules voor vlakke substraten - elke klanttoepassing kan met deze technologie worden bediend. Om speciale functionele groepen op het polymeeroppervlak te creëren, kunnen verschillende procesgassen worden gebruikt. Vermogen: 200 W per spuitmond Kanalen: 1-2 Procesgas: Lucht, Zuurstof, Argon, Stikstof Potentiaalvrij: vrijwel Transformator: intern & extern EDC Technologie: geïntegreerd NDC2 Technologie: integreerbaar
Vergelijkbare Producten
1/12
Plasma MEF 7-140 - MEF Technologie
Plasma MEF 7-140 - MEF Technologie
Het plasma wordt bij de MEF-technologie gegenereerd door een elektrisch belemmerde ontlading en wordt als een geconcentreerde straal met behulp van pe...
DE-21436 Marschacht
Plasma MEF 7-28V - MEF Technologie
Plasma MEF 7-28V - MEF Technologie
Het plasma wordt bij de MEF-technologie gegenereerd door een elektrisch belemmerde ontlading en wordt als een geconcentreerde straal met behulp van pe...
DE-21436 Marschacht
Plasma MEF 1-Kanaal - MEF Technologie
Plasma MEF 1-Kanaal - MEF Technologie
Het plasma wordt bij de MEF-technologie gegenereerd door een elektrisch belemmerde ontlading en wordt als een geconcentreerde straal met behulp van pe...
DE-21436 Marschacht
Plasma CAT 1-Kanaal - CAT Technologie
Plasma CAT 1-Kanaal - CAT Technologie
Het potentiaalvrije plasma wordt bij de CAT-technologie gegenereerd door twee lichtbogen, waarbij de tegenlichtboog tegelijkertijd als tegenelektrode ...
DE-21436 Marschacht
Plasma MEF 2-Kanaal - MEF Technologie
Plasma MEF 2-Kanaal - MEF Technologie
Het plasma wordt bij de MEF-technologie gegenereerd door een elektrisch belemmerde ontlading en wordt als een geconcentreerde straal met behulp van pe...
DE-21436 Marschacht
Plasma MEF met EDC - MEF Technologie
Plasma MEF met EDC - MEF Technologie
Het plasma wordt bij de MEF-technologie gegenereerd door een elektrisch belemmerde ontlading en wordt als een geconcentreerde straal met behulp van pe...
DE-21436 Marschacht
Plasma T-SPOT 1-Kanaal - T-SPOT Technologie
Plasma T-SPOT 1-Kanaal - T-SPOT Technologie
De ontlading bij de T-SPOT wordt op klassieke wijze ontstoken tussen een centraal geplaatste elektrode en de als tegenelectrode dienende spuitmond. Do...
DE-21436 Marschacht
Plasma CAT 2-Kanaal - CAT Technologie
Plasma CAT 2-Kanaal - CAT Technologie
Het potentiaalvrije plasma wordt bij de CAT-technologie gegenereerd door twee lichtbogen, waarbij de tegenlichtboog tegelijkertijd als tegenelektrode ...
DE-21436 Marschacht
Plasma T-SPOT 2-Kanaal - T-SPOT Technologie
Plasma T-SPOT 2-Kanaal - T-SPOT Technologie
De ontlading bij de T-SPOT wordt op klassieke wijze ontstoken tussen een centraal geplaatste elektrode en de als tegenelectrode dienende nozzle. Door...
DE-21436 Marschacht
Plasma CAT Compact 1-Kanaal - CAT Technologie
Plasma CAT Compact 1-Kanaal - CAT Technologie
Het potentiaalvrije plasma wordt bij de CAT-technologie gegenereerd door twee lichtbogen, waarbij de tegenlichtboog tegelijkertijd als tegenelektrode ...
DE-21436 Marschacht
Plasma CAT Compact 2-Kanaal - CAT Technologie
Plasma CAT Compact 2-Kanaal - CAT Technologie
Het potentiaalvrije plasma wordt bij de CAT-technologie gegenereerd door twee lichtbogen, waarbij de tegenlichtboog tegelijkertijd als tegenelektrode ...
DE-21436 Marschacht
Corona T-JET 2-Kanaal - T-JET Technologie
Corona T-JET 2-Kanaal - T-JET Technologie
De corona-ontlading wordt binnenin de kop tussen twee elektroden opgewekt en via een luchtstroom naar het oppervlak geleid. Of het nu gaat om een enke...
DE-21436 Marschacht